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 - TOYOX東洋克斯
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 - ITOH伊藤
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OTSUKA大塚OPTM-A1,OPTM-A2,OPTM-A3顯微分光膜厚儀
OTSUKA大塚OPTM-A1,OPTM-A2,OPTM-A3顯微分光膜厚儀
	
OTSUKA大塚主要銷售用于光學特性評價?檢查的裝置。其裝置用于在LED、 OLED、汽車前燈等的光源?照明產業以及液晶顯示器、有機EL顯示器等平板顯示產業以及其相 關材料的光學特性評價?檢查。歡迎新老客戶來電咨詢!
OTSUKA大塚產品特點膜厚測量中必要的功能集中于頭部。通過顯微分光高精度測量絕i對反射率(多層膜厚、光學常數)。1點只需不到1秒的高速tact。實現了顯微下廣測量波長范圍的光學系(紫外~近紅外)。OTSUKA大塚通過區域傳感器控制的**構造。搭載可私人定制測量順序的強大功能。即便是沒有經驗的人也可輕松解析光學常數。各種私人定制對應(固定平臺,OTSUKA大塚OPTM,有嵌入式測試頭式樣)。
	
 
	
	OTSUKA大塚頭部集成了薄膜厚度測量所需功能
通過顯微光譜法測量高精度**反射率(多層膜厚度,光學常數)
1點1秒高速測量
OTSUKA大塚顯微分光下廣范圍的光學系統(紫外至近紅外)
區域傳感器的**機制
易于分析向導,初學者也能夠進行光學常數分析
獨立測量頭對應各種inline客制化需求
支持各種自定義 
OTSUKA大塚OPTM-A1,OPTM-A2,OPTM-A3顯微分光膜厚儀
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			OTSUKA大塚OPTM-A1 | OTSUKA大塚OPTM-A2 | OTSUKA大塚OPTM-A3 | 
|---|---|---|---|
| 波長范圍 | 230 ~ 800 nm | 360 ~ 1100 nm | 900 ~ 1600 nm | 
| 膜厚范圍 | 1nm ~ 35μm | 7nm ~ 49μm | 16nm ~ 92μm | 
| 測定時間 | 1秒 / 1點 | ||
| 光斑大小 | 10μm (*小約5μm) | ||
| 感光元件 | CCD | InGaAs | |
| 光源規格 | 氘燈+鹵素燈 | 鹵素燈 | |
| 電源規格 | AC100V±10V 750VA(自動樣品臺規格) | ||
| 尺寸 | 555(W) × 537(D) × 568(H) mm (自動樣品臺規格之主體部分) | ||
| 重量 | 約 55kg(自動樣品臺規格之主體部分) | ||
	
	
	OTSUKA大塚OPTM-A1,OPTM-A2,OPTM-A3顯微分光膜厚儀測量項目:
**反射率測量
多層膜解析
光學常數分析(n:折射率,k:消光系數) 
	OTSUKA大塚OPTM-A1,OPTM-A2,OPTM-A3顯微分光膜厚儀測量示例:
SiO 2 SiN [FE-0002]的膜厚測量 
OTSUKA大塚半導體晶體管通過控制電流的導通狀態來發送信號,但是為了防止電流泄漏和另一個晶體管的電流流過任意路徑,有必要隔離晶體管,埋入絕緣膜。 SiO 2(二氧化硅)或SiN(氮化硅)可用于絕緣膜。 SiO 2用作絕緣膜,而SiN用作具有比SiO 2更高的介電常數的絕緣膜,或是作為通過CMP去除SiO 2的不必要的阻擋層。之后SiN也被去除。 OTSUKA大塚為了絕緣膜的性能和**的工藝控制,有必要測量這些膜厚度。
	
	OTSUKA大塚OPTM-A1,OPTM-A2,OPTM-A3顯微分光膜厚儀,OTSUKA大塚OPTM-A1,OTSUKA大塚OPTM-A2,OTSUKA大塚OPTM-A3顯微分光膜厚儀,
 
